日本頂尖的綜合性化學公司之一的昭和電工公司(SDK)5月20日稱,該公司已開發出上可生產包含異氰酸和丙烯酸兩個基因的單體的工業化生產工藝。

    該公司稱,這種新開發的單體與傳統異氰酸酯單體相比,用于照相排版有更高速率,SDK公司已開始以Karenz AOI商品名稱,并且作為樣品供貨用于電子和印刷行業。

    異氰酸酯單體通常更多的是與不同類型聚合物反應,得到不同的功能,其中包括照相排版功能。

    迄今為止,SDK公司所提供的Karenz MOI單體具有高反應性,含有異氰酸酯和甲基丙烯酸基因,能使不同功能化合物在用可見光、紫外線和電子束曝光時更易固化。 Karenz MOI單體已廣泛應用于各電子領域,如液體光致抗蝕劑、薄膜光致抗蝕劑和粘合劑,以及也應用于印刷領域。

    這種新開發單體是唯一含有丙烯酸基因和異氰酸基因的單體.而Karenz MOI單體包含一個甲基丙烯酸基因和異氰酸基因。

    這種化學機構變化導致照相排版有更高的速率。

    SDK公司稱,該公司將進一步開發更多異氰酸酯單體新品種,目標到2009年銷售額達到20億日元(1770萬美元/1480萬歐元).